Chunyuan posseeix una sèrie de tecnologies bàsiques i ha desenvolupat de manera independent una sèrie única d'equips PVD (deposició física de vapor) que inclouen el revestiment al buit d'ions d'arc multi-(revestiment d'ions purs), la polsació de magnetrons i el revestiment d'evaporació per feix d'electrons, així com una sèrie d'equips CVD (deposició de vapor químic). A més, ha desenvolupat capes de recobriment avançades, com ara pel·lícules basades en nano/micres de carboni-i pel·lícules d'aliatge, que es caracteritzen per baixes temperatures de recobriment, sense estrès tèrmic, alta puresa, alta densitat i duresa extrema.
Els productes actuals s'han aplicat àmpliament en diverses indústries, com ara l'electrònica de consum 3C, components electrònics, transport, eines de tall i motlles, institucions d'energia nova, mèdiques i de recerca.