Plataforma de deposició física de vapor industrial (PVD) dissenyada per a la síntesi d'-alta velocitat de recobriments durs densos, resistents al desgast- i funcionals. El manteniment d'una descàrrega d'arc catòdic d'alta -corrent i baixa- tensió a les superfícies sòlides de l'objectiu genera un corrent de plasma ionitzat del 80% al 100%.
Combinada amb la polarització del substrat negatiu programable, aquesta alta energia cinètica impulsa la mescla interfacial a -escala atòmica, donant lloc a una adhesió de pel·lícula superior i una porositat columnar zero. L'arquitectura de la cambra admet configuracions modulars multi-càtodes per a la deposició automatitzada de nano{-laminats d'una{-capa, multi-capa i recobriments de gradient estequiomètric (TiN, TiAlN, CrN, TiCN).
Especificacions tècniques
|
Paràmetre |
Especificació d'enginyeria |
|
Dimensions de la cambra |
Cilíndric/rectangular personalitzat (estàndard: Phi 800 mm x 1000 mm fins a Phi 2000 mm) |
|
Estructura de la Cambra |
Acer inoxidable SUS304/316L de doble-paret amb canals d'aigua de refrigeració en espiral integrats |
|
Pressió de buit màxima |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Backed by magnetic levitation turbomolecular + roots-rotary pump stack) |
|
Bomba-Cicle de baixada |
Atmosfera fins a 6,0 x 10^-3 Pa in<= 15 minutes |
|
Fonts d'arc catòdic |
De 4 a 8 canals de CC independents (suports d'objectius refrigerats per aigua Phi 85 mm / Phi 100 mm) |
|
Potència de sortida d'arc |
0-200 A ajustable contínuament per canal; extinció d'arc de microsegons integrat |
|
Subministrament de biaix de substrat |
0-1000 V ajustable, sortida de CC polsada (rang de freqüència 10-50 kHz) |
|
Calefacció de substrat |
matriu de làmpades infrarojes de quars; sostre operatiu de 600 graus (uniformitat de +/- 5 graus) |
|
Moviment de fixació |
Rotació planetària o de doble eix-a través d'alimentadors rotatius de fluid magnètic (0-5 RPM) |
|
Arquitectura de control |
PLC + PC industrial (IPC) executant l'execució de receptes-en temps real amb enclavaments de seguretat cablejats |
Característiques clau
Alta taxa d'ionització:La vaporització catòdica directa converteix el flux metàl·lic en ions d'alta-densitat, promovent estructures de gra denses sense micro-buits.
Direcció magnètica activa:Les bobines electromagnètiques programables escombren el punt d'arc a través de les cares de l'objectiu, suprimint el cràter localitzat i impulsant la utilització del material objectiu més enllà del 60%.
Control dinàmic de gas:Els controladors de flux massiu (MFC) de bucle-tancat regulen la injecció de gas reactiu (N2, O2, C2H2) mitjançant retroalimentació de pressió parcial-en temps real.
Sinèrgia multi-font:Les parets de la cambra s'adapten a dissenys d'objectius híbrids, cosa que permet la deposició seqüencial ininterrompuda de capes de ceràmica multi-component en un sol cicle de buit.
Configuració del sistema de buit
Grup de desbast i arrels:Bomba de paletes rotatives d'accionament-directe combinada amb un bufador Roots de gran-desplaçament per gestionar càrregues elevades de gas durant el processament reactiu.
Etapa d'alt buit:Magnetic levitation turbomolecular pump (>= 1600 L/s) acoblat mitjançant una vàlvula de comporta pneumàtica d'alta-conductància.
Instrumentació de buit:Configuració de calibre dual-pirani entrellaçat i càtode fred que controla els intervals de pressió total des de l'atmosfera fins a 10^-6 Pa.
Integritat de fuites:Les brides-segellades d'elastòmer amb refredament-encamisat d'aigua mantenen les taxes de fuites del sistema per sota d'1,0 x 10^-9 Pa*m3/s.
Materials d'evaporació i compatibilitat amb substrats
Materials diana del càtode
Metalls i aliatges de transició:Titani (Ti), Crom (Cr), Zirconi (Zr), Alumini (Al), Titani-Alumini (TiAl 50/50, 33/67), Tungstè (W).
No-metàl·lics:Grafit d'alta -puresa (C) per a capes de diamant-com el carboni (DLC) i carbur.
Substrats industrials
Acers i carburs per a eines:Acer d'alta-velocitat (HSS), carburs cimentats (WC-Co).
Aliatges estructurals:Acers inoxidables austenítics/martensítics, aliatges de titani (TC4), superaliatges basats en níquel-(Inconel).
Aplicacions
Eines de tall de precisió:Deposició de TiAlN i AlTiN en trepants, freses i plaques d'engranatge per augmentar la duresa de la superfície a 3300-3500 HV i augmentar la resistència a l'oxidació tèrmica fins a 800 graus.
Enginyeria de l'automoció:Baixa-fricció, recobriments-resistents al desgast en components d'injecció de combustible, anells de pistons i taquets.
Motlles i matrius:Deposició de nitrur de crom (CrN) en motlles d'injecció de plàstic per evitar el desgast de l'adhesiu, la micro-soldadura i l'adherència de resina.
Opcions de personalització
Mida de la cambra:Modificacions geomètriques fetes a mida per a panells arquitectònics de grans dimensions o carrusels d'eines petites-d'alt rendiment.
Hibridació de la font:Integració de fonts d'arc catòdic amb sputtering de magnetró desequilibrat (UBM) o càtodes HiPIMS en un cos unificat.
Interfícies d'automatització:Integració del MES de fàbrica mitjançant protocols OPC-UA juntament amb opcions d'escotilla de càrrega automatitzada.
Control de qualitat i proves de fàbrica
Verificació de fuites d'heli:Comprovació de fuites per espectròmetre de masses realitzada en totes les soldadures i segells al buit.
Auditoria de seguretat elèctrica:Proves d'aïllament d'hipot, comprovacions de continuïtat de la connexió a terra i verificació del bucle del circuit E{0}}stop.
Prova de durada de 72-hores:Cicle continu de funcionament en sec-de accionaments de rotació mecànics, interruptors de cabal d'aigua i seqüències de vàlvules PLC abans del desmuntatge.
Proves d'acceptació de fàbrica (FAT):Realitzat al lloc-per validar els nivells de buit bàsics, l'estabilitat de l'encesa de l'arc i la distribució del gruix de la línia de base als cupons de calibratge.
Instal·lació i suport tècnic
Entrega de requisits de la instal·lació:Detailed utility drawings specifying floor loading capacity, chilled water specifications (>= 0.3 MPa, 15-25 graus ), extracció d'escapament i caigudes d'alimentació (trifàsica, 380 V/480 V).
Encàrrec de camp:Supervisió al lloc-per part d'enginyers de camp mecànics i elèctrics que cobreixen l'alineació, la connexió i els lots de prova.
Formació d'operadors:Instruccions estructurades sobre la configuració de la recepta del programari, els procediments d'intercanvi d'objectius del càtode i el manteniment preventiu del buit.
Diagnòstic remot:Passarel·la VPN industrial segura incrustada al tauler de control per a la telemetria del programari i la resolució de problemes.
Preguntes freqüents
P: Com gestiona el sistema les microgotes (macropartícules) habituals en els processos d'arc catòdic sense filtrar?
R: Les configuracions estàndard utilitzen camps de direcció electromagnètics optimitzats per controlar la velocitat del punt de l'arc i minimitzar l'emissió de gotes. Per a aplicacions de semiconductors o òptiques que requereixen nivells de defectes inferiors a -microns, es poden integrar mòduls de conductes magnètics d'arc catòdic filtrat (FCA) per atrapar macropartícules neutres.
P: Quin és el temps d'execució de substitució objectiu típic?
R: Els càtodes utilitzen dissenys de subjecció mecànica-d'alliberament ràpid. Un operador format pot executar un conjunt complet de reemplaçaments d'objectius en 30 minuts sense trencar els segells de la cambra estructural.
P: El sistema pot executar execucions automatitzades de gradient multi-capes sense la intervenció de l'operador?
A: Sí. El motor de receptes del PLC controla receptes de diverses-etapes, gestionant les transicions a les pressions parcials de gas reactiu, el perfil de polarització del substrat i l'activació del canal-seqüencial de potència automàticament.
P: Quins són els requisits previs exactes d'utilitat bàsica per a la preparació del lloc?
A: The installation site must supply a closed-loop industrial chiller (15-30 kW cooling capacity), clean compressed air (>= 0.6 MPa), high-purity process gases (Ar, N2, C2H2 at >= 99.999% de puresa) i potència industrial trifàsica estable.
Etiquetes populars: Equips de deposició per evaporació d'arc, fabricants d'equips de deposició per evaporació d'arc de la Xina, proveïdors, fàbrica

