Equips de deposició per evaporació d'arc

Equips de deposició per evaporació d'arc

Detalls
Plataforma de deposició física de vapor industrial (PVD) dissenyada per a la síntesi d'-alta velocitat de recobriments durs densos, resistents al desgast- i funcionals. El manteniment d'una descàrrega d'arc catòdic d'alta -corrent i baixa- tensió a les superfícies sòlides de l'objectiu genera un corrent de plasma ionitzat del 80% al 100%.
Classificació de producte
Equips de pel·lícula fina d'evaporació d'arc
 
Enviar la consulta
Descripció
Paràmetres tècnics

Plataforma de deposició física de vapor industrial (PVD) dissenyada per a la síntesi d'-alta velocitat de recobriments durs densos, resistents al desgast- i funcionals. El manteniment d'una descàrrega d'arc catòdic d'alta -corrent i baixa- tensió a les superfícies sòlides de l'objectiu genera un corrent de plasma ionitzat del 80% al 100%.


Combinada amb la polarització del substrat negatiu programable, aquesta alta energia cinètica impulsa la mescla interfacial a -escala atòmica, donant lloc a una adhesió de pel·lícula superior i una porositat columnar zero. L'arquitectura de la cambra admet configuracions modulars multi-càtodes per a la deposició automatitzada de nano{-laminats d'una{-capa, multi-capa i recobriments de gradient estequiomètric (TiN, TiAlN, CrN, TiCN).

 

Especificacions tècniques

 

Paràmetre

Especificació d'enginyeria

Dimensions de la cambra

Cilíndric/rectangular personalitzat (estàndard: Phi 800 mm x 1000 mm fins a Phi 2000 mm)

Estructura de la Cambra

Acer inoxidable SUS304/316L de doble-paret amb canals d'aigua de refrigeració en espiral integrats

Pressió de buit màxima

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Backed by magnetic levitation turbomolecular + roots-rotary pump stack)

Bomba-Cicle de baixada

Atmosfera fins a 6,0 x 10^-3 Pa in<= 15 minutes

Fonts d'arc catòdic

De 4 a 8 canals de CC independents (suports d'objectius refrigerats per aigua Phi 85 mm / Phi 100 mm)

Potència de sortida d'arc

0-200 A ajustable contínuament per canal; extinció d'arc de microsegons integrat

Subministrament de biaix de substrat

0-1000 V ajustable, sortida de CC polsada (rang de freqüència 10-50 kHz)

Calefacció de substrat

matriu de làmpades infrarojes de quars; sostre operatiu de 600 graus (uniformitat de +/- 5 graus)

Moviment de fixació

Rotació planetària o de doble eix-a través d'alimentadors rotatius de fluid magnètic (0-5 RPM)

Arquitectura de control

PLC + PC industrial (IPC) executant l'execució de receptes-en temps real amb enclavaments de seguretat cablejats

 

Característiques clau


Alta taxa d'ionització:La vaporització catòdica directa converteix el flux metàl·lic en ions d'alta-densitat, promovent estructures de gra denses sense micro-buits.


Direcció magnètica activa:Les bobines electromagnètiques programables escombren el punt d'arc a través de les cares de l'objectiu, suprimint el cràter localitzat i impulsant la utilització del material objectiu més enllà del 60%.


Control dinàmic de gas:Els controladors de flux massiu (MFC) de bucle-tancat regulen la injecció de gas reactiu (N2, O2, C2H2) mitjançant retroalimentació de pressió parcial-en temps real.


Sinèrgia multi-font:Les parets de la cambra s'adapten a dissenys d'objectius híbrids, cosa que permet la deposició seqüencial ininterrompuda de capes de ceràmica multi-component en un sol cicle de buit.

 

Configuració del sistema de buit


Grup de desbast i arrels:Bomba de paletes rotatives d'accionament-directe combinada amb un bufador Roots de gran-desplaçament per gestionar càrregues elevades de gas durant el processament reactiu.


Etapa d'alt buit:Magnetic levitation turbomolecular pump (>= 1600 L/s) acoblat mitjançant una vàlvula de comporta pneumàtica d'alta-conductància.


Instrumentació de buit:Configuració de calibre dual-pirani entrellaçat i càtode fred que controla els intervals de pressió total des de l'atmosfera fins a 10^-6 Pa.


Integritat de fuites:Les brides-segellades d'elastòmer amb refredament-encamisat d'aigua mantenen les taxes de fuites del sistema per sota d'1,0 x 10^-9 Pa*m3/s.

 

Materials d'evaporació i compatibilitat amb substrats


Materials diana del càtode
Metalls i aliatges de transició:
Titani (Ti), Crom (Cr), Zirconi (Zr), Alumini (Al), Titani-Alumini (TiAl 50/50, 33/67), Tungstè (W).


No-metàl·lics:Grafit d'alta -puresa (C) per a capes de diamant-com el carboni (DLC) i carbur.


Substrats industrials
Acers i carburs per a eines:Acer d'alta-velocitat (HSS), carburs cimentats (WC-Co).


Aliatges estructurals:Acers inoxidables austenítics/martensítics, aliatges de titani (TC4), superaliatges basats en níquel-(Inconel).

 

Aplicacions


Eines de tall de precisió:Deposició de TiAlN i AlTiN en trepants, freses i plaques d'engranatge per augmentar la duresa de la superfície a 3300-3500 HV i augmentar la resistència a l'oxidació tèrmica fins a 800 graus.


Enginyeria de l'automoció:Baixa-fricció, recobriments-resistents al desgast en components d'injecció de combustible, anells de pistons i taquets.


Motlles i matrius:Deposició de nitrur de crom (CrN) en motlles d'injecció de plàstic per evitar el desgast de l'adhesiu, la micro-soldadura i l'adherència de resina.

 

Opcions de personalització


Mida de la cambra:Modificacions geomètriques fetes a mida per a panells arquitectònics de grans dimensions o carrusels d'eines petites-d'alt rendiment.


Hibridació de la font:Integració de fonts d'arc catòdic amb sputtering de magnetró desequilibrat (UBM) o càtodes HiPIMS en un cos unificat.


Interfícies d'automatització:Integració del MES de fàbrica mitjançant protocols OPC-UA juntament amb opcions d'escotilla de càrrega automatitzada.

 

Control de qualitat i proves de fàbrica


Verificació de fuites d'heli:Comprovació de fuites per espectròmetre de masses realitzada en totes les soldadures i segells al buit.


Auditoria de seguretat elèctrica:Proves d'aïllament d'hipot, comprovacions de continuïtat de la connexió a terra i verificació del bucle del circuit E{0}}stop.


Prova de durada de 72-hores:Cicle continu de funcionament en sec-de accionaments de rotació mecànics, interruptors de cabal d'aigua i seqüències de vàlvules PLC abans del desmuntatge.


Proves d'acceptació de fàbrica (FAT):Realitzat al lloc-per validar els nivells de buit bàsics, l'estabilitat de l'encesa de l'arc i la distribució del gruix de la línia de base als cupons de calibratge.

 

Instal·lació i suport tècnic


Entrega de requisits de la instal·lació:Detailed utility drawings specifying floor loading capacity, chilled water specifications (>= 0.3 MPa, 15-25 graus ), extracció d'escapament i caigudes d'alimentació (trifàsica, 380 V/480 V).


Encàrrec de camp:Supervisió al lloc-per part d'enginyers de camp mecànics i elèctrics que cobreixen l'alineació, la connexió i els lots de prova.


Formació d'operadors:Instruccions estructurades sobre la configuració de la recepta del programari, els procediments d'intercanvi d'objectius del càtode i el manteniment preventiu del buit.


Diagnòstic remot:Passarel·la VPN industrial segura incrustada al tauler de control per a la telemetria del programari i la resolució de problemes.

 

Preguntes freqüents

 

P: Com gestiona el sistema les microgotes (macropartícules) habituals en els processos d'arc catòdic sense filtrar?

R: Les configuracions estàndard utilitzen camps de direcció electromagnètics optimitzats per controlar la velocitat del punt de l'arc i minimitzar l'emissió de gotes. Per a aplicacions de semiconductors o òptiques que requereixen nivells de defectes inferiors a -microns, es poden integrar mòduls de conductes magnètics d'arc catòdic filtrat (FCA) per atrapar macropartícules neutres.

P: Quin és el temps d'execució de substitució objectiu típic?

R: Els càtodes utilitzen dissenys de subjecció mecànica-d'alliberament ràpid. Un operador format pot executar un conjunt complet de reemplaçaments d'objectius en 30 minuts sense trencar els segells de la cambra estructural.

P: El sistema pot executar execucions automatitzades de gradient multi-capes sense la intervenció de l'operador?

A: Sí. El motor de receptes del PLC controla receptes de diverses-etapes, gestionant les transicions a les pressions parcials de gas reactiu, el perfil de polarització del substrat i l'activació del canal-seqüencial de potència automàticament.

P: Quins són els requisits previs exactes d'utilitat bàsica per a la preparació del lloc?

A: The installation site must supply a closed-loop industrial chiller (15-30 kW cooling capacity), clean compressed air (>= 0.6 MPa), high-purity process gases (Ar, N2, C2H2 at >= 99.999% de puresa) i potència industrial trifàsica estable.

 

Etiquetes populars: Equips de deposició per evaporació d'arc, fabricants d'equips de deposició per evaporació d'arc de la Xina, proveïdors, fàbrica

Enviar la consulta
Contacta amb nosaltressi tens alguna pregunta

Pots contactar amb nosaltres per telèfon, correu electrònic o el formulari en línia que trobaràs a continuació. El nostre especialista es posarà en contacte amb vostè en breu.

Contacta ara!