Equip de pel·lícula fina millorada en plasma

Els equips de pel·lícula prima millorada en plasma és una tecnologia de recobriment d’ions pur (feix d’ions pur), la tecnologia de neteja de feixos d’ions d’alta energia (ionbeam), la tecnologia de sputter de magnetrons (Sputter) i la deposició de vapor de confinament magnètic (confinament magnètic-CVD) són quatre tecnologies en una, que és una fusió perfecta de la tecnologia PVD i de la tecnologia CVD.

Els equips de pel·lícules primes millorades en plasma proporcionen una combinació de processos més flexible per satisfer una varietat de necessitats complexes de productes, i el seu potent procés híbrid proporciona més possibilitats per als dissenyadors de processos.

Equip de pel·lícula fina millorada per plasma Breu introducció de funcions dels equips:

(1) Font de recobriment d'ions pur, que utilitza un sistema de filtració electromagnètica eficient, elimina efectivament les partícules, obtenen un feix d'ions de puresa superior, ajuden a millorar la duresa del recobriment i la força d'unió;

(2) font de neteja de feixos d'ions d'alta energia, mitjançant una estructura de descàrrega especialment dissenyada, compatible eficaçment amb l'activació de neteja de plasma, ionització auxiliar, deposició independent i altres funcions;

(3) Font de Sputtering de Magnetron, que utilitza un disseny innovador de camp magnètic, milloren eficaçment la taxa d’utilització de l’objectiu superior al 30%;

(4) La font de deposició de vapor confinada magnèticament, fiable i fàcil de mantenir l'estructura, pot aconseguir una deposició ràpida i fina de recobriment.

Tipus de recobriment típics:

(1) Me-Tac, recobriment compost compost de metall, àmpliament utilitzat

(2) Me-DLC, recobriment compost DLC metàl·lic, àmpliament utilitzat

(3) Els recobriments compostos de Me-Tac-DLC, TAC-DLC, tot i que obtenen una duresa bàsica i una força d'unió de TAC, tenen la velocitat de deposició i l'aspecte fi de DLC.

Els equips de pel·lícula prima millorada en plasma expresses poden adonar-se de la combinació de TAC-DLC, que millora considerablement la força d’unió en comparació amb el CVD senzill, alhora que redueix la mida de les partícules de PVD i escurçant el temps del procés.

Els equips de pel·lícula prima millorada en plasma expressos poden aconseguir una varietat de processos de deposició de pel·lícules C, TAC de xapa d’ions pures, descàrrega de confinament magnètic DLC, placa d’ions de capa d’anodes DLC, etc.

Els equips de pel·lícula prima millorada en plasma expresses estan equipades amb un dispositiu i programari d’escaneig electromagnètic, que pot controlar la direcció del feix del plasma en un moment i un moment fixos, millorant molt el problema de la uniformitat de recobriment i la uniformitat de tota la capa de cinema del forn es controla per sota de ± 5%; Disseny de camp magnètic optimitzat i disseny de refrigeració optimitzat, fàcil manteniment, bona estabilitat dels equips;

Interfície manual expressa, enregistrament en temps real de dades de processos, propici per al control de qualitat, anàlisi difícil, desenvolupament de nous processos;

Express Aquest projecte és un equip clau en mà, Pure Source Company ofereix una solució completa, incloent -hi la fórmula estable de recobriment madur.